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突破性激光技术或将重塑EUV光刻系统,光刻机板块表现活跃,百傲化学、茂莱光学涨超7%

2025-01-10 09:51:04
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摘要:突破性激光技术或将重塑EUV光刻系统,光刻机板块掀起涨停潮,半导体产业链迎来新机遇。今日,光刻机(胶)板块表现活跃。截至发稿,百傲化学、茂莱光学涨超7%,永新光学、科玛科技、晶方科技、波长电光、张江高科跟涨。消息面上,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室正在

突破性激光技术或将重塑EUV光刻系统,光刻机板块掀起涨停潮,半导体产业链迎来新机遇。

今日,光刻机(胶)板块表现活跃。截至发稿,百傲化学、茂莱光学涨超7%,永新光学、科玛科技、晶方科技、波长电光、张江高科跟涨。

消息面上,美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室正在开发一种新型拍瓦级大孔径铥激光器,有望将极紫外光刻光源效率提高约10倍。这种BAT激光器使用掺铥元素的氟化钇锂作为增益介质,可以增加激光束的功率和强度。与现有的二氧化碳激光器相比,BAT激光器有望实现更高的等离子体到EUV转换效率,并提供更好的整体电气效率和热管理。这项技术突破或将重塑现有EUV光刻系统,为生产更小、更强大的芯片奠定基础。

板块影响:

光刻机设备制造板块:新型BAT激光器的出现可能会推动光刻机设备制造商进行技术升级,相关企业或将获得新的发展机遇。国内光刻机设备制造商可能加大研发投入,以缩小与国际先进水平的差距。

半导体芯片制造板块:更高效的光刻技术有助于提升芯片制造工艺水平,推动先进制程芯片的量产。芯片制造企业有望借此提升产品性能,增强市场竞争力。

激光器及光学元件板块:新型BAT激光器的研发成功可能带动相关激光器及光学元件技术的进步。国内激光器及光学元件生产企业或将受益于行业技术升级,迎来新的市场机遇。

半导体材料板块:新型光刻技术的应用可能对半导体材料提出更高要求,推动相关企业加大研发力度,开发适配新工艺的高性能材料。

受影响较大的上市公司包括:

中微公司(688012):国内领先的半导体设备制造商,在光刻机核心部件等领域具有技术优势。

上海微电子(688701):专注于光刻机及相关核心部件的研发与制造,是国内重要的光刻机企业。

晶盛机电(300316):主要从事半导体设备及材料的研发与生产,在光刻机相关领域有布局。

华峰测控(688200):专注于半导体测试设备的研发与生产,可能受益于先进制程芯片的发展。

中科曙光(603019):在高性能计算领域具有优势,可能从先进芯片制造中获益。

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