金融界2024年5月8日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社取得一项名为“包括垂直存储器件的集成电路器件“,授权公告号CN109285839B,申请日期为2018年5月。
专利摘要显示,提供了一种集成电路器件,其包括:在衬底上在垂直方向上彼此重叠的多个字线、在衬底的一区域上在垂直方向上延伸穿过所述多个字线的多个沟道结构、在所述多个沟道结构上的多个位线接触垫、以及多个位线,其中所述多个位线包括在所述区域的中央区中以第一节距布置并彼此平行延伸的多个第一位线、以及在所述区域的边缘区中以第二节距布置的多个第二位线,第二节距不同于第一节距。