金融界2024年2月6日消息,据国家知识产权局公告,多氟多新材料股份有限公司申请一项名为“一种选择性BOE蚀刻液“,公开号CN117511549A,申请日期为2023年10月。
专利摘要显示,本发明涉及一种选择性BOE蚀刻液,属于湿电子化学品技术领域。所述的蚀刻液成分为5‑15wt%的氢氟酸、20‑40wt%的氟化铵、0.1‑0.6wt%的双组分抑制剂、0.02‑0.2wt%的消泡剂、余量为超纯水;所述双组分抑制剂包括含三氟甲基的苯甲酰胺和双氧水。本发明双组分抑制剂中含三氟甲基的苯甲酰胺与双氧水协同作用,在金属表面形成较好的保护膜,在增加对氧化硅蚀刻速率的情况下仍能保持对金属较少的蚀刻,从而实现较高的选择比。