据韩媒报道称,三星计划进口更多ASML极紫外(EUV)光刻设备,未来ASML将在五年内提供总共50套设备,而每台单价约为2000亿韩元,总价值可达10万亿韩元(当前约551亿元人民币)。目前EUV光刻设备最大的问题是产量有限。据官方介绍,它“比卫星部件还复杂”,每年只能生产很有限的数量。据说去年是40台,今年ASML估计是60台。而目前需要且能购买到EUV光刻设备的厂商有五家:三星电子、台积电、英特尔、SK 海力士和美光。其中,台积电约占供应量的 70%,剩下四家公司争夺剩下的30%。
三星电子于去年6月推出了全球首个采用全栅极(GAA)技术的3nm代工技术,因此该公司一直在努力确保采购更多EUV光刻设备,目标是在明年上半年进入3nm世代的第二代工艺,在2025年进入2nm工艺,在2027年进入1.4nm工艺。此前,三星电子宣布计划到2025年拥有100台EUV光刻机。市场估计三星目前的EUV机群约为40台。如果这50台设备的能够顺利交付,那么三星到2028年将能够拥有约100台设备,使其在半导体制造领域的竞争实力得到进一步提升。