国有资本向战略性新兴产业集中 国产光刻设备可期lg...

11月10日，国务院国资委党委召开扩大会议强调要高水平做好国资央企系统国有资本经营预算工作，依据国有企业功能分类，制定重点行业、关键领域、核心企业的注资规划，推动国有资本向前瞻性战略性新兴产业集中，更好发挥国有经济战略支撑作用。上海微电子装备(集团) 股份有限公司近宣布，拟申请在境内首次公开发行股票并上市。作为国内几乎是唯一的光刻机整机厂商，该公司具备90nm及以下的芯片制造能力，产品市场优势主要体现在其后道封装光刻机领域。研究机构表示，国内对于光刻机产业链的投资和支持力度持续加大，未来若DUV及EUV设备逐步实现国产化突破，28nm和14nm产线有能力逐步实现国产化，从而迎来新一轮半导体扩产周期。

光刻是半导体生产中最重要的工艺步骤：光刻是半导体器件制造的最核心步骤，直接决定集成电路的性能和良率。光刻机的核心工艺指标包括：分辨率、聚焦深度、套刻精度、曝光功率及单位时间产能等。主流的光刻机均采用浸没系统、可编程光照、畸变修正、热效应修正、对准与表面测量等高难度技术。

此前财通证券指出，在光刻配套设备与零件方面，建议关注苏大维格（300311.SZ）、茂莱光学(688502.SH)、芯源微（688037.SH）、精测电子（300567.SZ）、盛美上海（688082.SH）、美埃科技（688376.SH）、炬光科技（688167.SH）、福晶科技（002222.SZ）等。